近日，英伟达春季GTC技术大会上宣布推出了cuLitho软件加速库，该技术可将计算光刻的用时提速40倍以上。

这是一项重要的技术创新
，将为芯片制造业带来更快、更高效的生产模式
。

芯片制造是一项极其复杂的工艺，制造一枚芯片需要多次曝光，而每次曝光都需要使用掩膜
。

以NVIDIA H100为例
，这款芯片需要使用89张掩膜
，而Intel的14nm CPU则需要50多张掩膜。

过去，计算光刻依赖于CPU服务器集群
，效率低下
，速度慢，往往需要数小时甚至数天的时间来完成
。

cuLitho软件加速库的推出
，将彻底改变这一状况。

使用500套DGX H100（每套包含4000颗Hopper GPU）就可以完成与4万颗CPU运算服务器相同的工作量
，而且速度快40倍
，功耗低9倍
。

这不仅提高了生产效率，而且有助于节省能源和资源成本
。

此外，英伟达还表示，该技术可以在芯片生产中实现更加精细化的控制
，提高芯片的制造质量和稳定性。

在全球范围内，芯片制造业正处于高速发展期，技术的创新将极大地促进行业的发展，提高生产效率，降低制造成本，同时也为人们的生活带来更多便利和创新
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